[CER-2] Fotomaszk tervezés / Photomask design

Konzorciumi Partner / Consortium Partner	[CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet
Szolgáltatás kategóriája / Service category	Áttekintés: Mikromegmunkálási és litográfiai szolgáltatások / Overview: Microfabrication and lithography services
Rövid leírás / Short description	Layout tervezés a fotómaszk készítéshez Layout design for photomask processing
Várható szállítási idő / Typical lead time	Változó, megrendeléskor számoljuk / Variable, calculated on ordering
Irányár / Approx. cost	€60 óránként / per hour
Kép / Image	https://www.femto-engineering.fr/wp-content/uploads/2020/04/femto-engineering-048.jpg

Leírás

A Fotómaszk tervezés szolgáltatás keretében a [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet professzionális layout-tervezést biztosít mikro- és nanofabrikációs eljárásokhoz használt fotómaszkok előállításához. A szolgáltatás célja a gyártásra alkalmas, technológiailag helyes maszkgeometria kialakítása az adott litográfiai folyamat követelményeinek megfelelően.

A fotómaszk tervezés kritikus előfeltétele a megbízható és reprodukálható mikro- és nanofabrikációs folyamatoknak, különösen prototípus- és kutatás-fejlesztési alkalmazások esetén.

A tevékenység magában foglalhatja: eszköz- és struktúralayoutok tervezését, design rule check (DRC) és technológiai kompatibilitás ellenőrzést, rétegszerkezetek és maszk-szintek definiálását, gyártási toleranciák figyelembevételével történő optimalizálást, a végleges maszkfájlok (pl. GDSII) előállítását.

Description

Within the framework of the Photomask design service, [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet provides professional layout design for the production of photomasks used in micro- and nanofabrication processes. The service aims to create mask geometry suitable for manufacturing and technologically correct according to the requirements of the given lithographic process.

Photomask design is a critical prerequisite for reliable and reproducible micro- and nanofabrication processes, especially in prototype and research-development applications.

The activity may include: design of device and structural layouts, design rule check (DRC) and technological compatibility verification, definition of layer structures and mask levels, optimization considering manufacturing tolerances, production of final mask files (e.g., GDSII).