[CER-3] Fotomaszk feldolgozás / Photomask processing
Konzorciumi Partner / Consortium Partner | [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet |
|---|---|
Szolgáltatás kategóriája / Service category | [CER] Mikromegmunkálási és litográfiai szolgáltatásokArchived |
Rövid leírás / Short description | Fotomaszk létrehozás lézerminta-generátorral (felbontástól függően). Kapcsolódó szolgáltatás: [CER-2] Fotomaszk tervezés / Photomask design Photomask writing with laser pattern generator (resolution dependent). Related service: [CER-2] Fotomaszk tervezés / Photomask design |
Várható szállítási idő / Typical lead time | Változó, megrendeléskor számoljuk / Variable, calculated on ordering |
Irányár / Approx. cost | €305-370 mintánként/per sample |
Kép / Image |  https://www.femto-engineering.fr/wp-content/uploads/2020/04/femto-engineering-048.jpg |
Leírás
A fotomaszk létrehozása lézerminta-generátorral (laser pattern generator) egy nagy pontosságú mintázási szolgáltatás, amely során a kívánt maszk-mintát lézerrel exponáljuk kromréteggel bevont üveghordozóra. A folyamat felbontása a berendezés képességeitől és a választott mintázási paraméterektől függ.
A szolgáltatás alkalmas mikrofluidikai, fotonikai, MEMS/NEMS és egyéb mikrogyártási lépésekhez szükséges nagypontosságú fotomaszkok előállítására.
Mit tartalmaz a szolgáltatás?
A benyújtott GDSII/DXF/OASIS fájl fotomaszkon történő kiírása
Lézerminta-generátoros expozíció a megadott felbontással
Egyrétegű vagy többrétegű maszkok előkészítése (különálló írások formájában)
Igény esetén: igazítójelek, referenciapontok, kalibrációs minták elhelyezése
Kimenetként: 5” × 5” méretű fotomaszk
Kapcsolódó szolgáltatás
Fotomaszk tervezés (CER-2)
A részletes tervezés, layout-készítés és DRC külön szolgáltatás keretében érhető el:
Lásd: Fotomaszk tervezés / Photomask design (link a tudásbázisban).
Szeletméret / Maszkméret
5” × 5” fotomaszk
Tipikus felhasználási területek
Mikrofluidikai mesterformák
Fotolitográfiás lépések chipgyártásban
Hullámvezetők, rácsok, optikai struktúrák
MEMS/NEMS minták
Szenzor-elektródák mintázása
Kutatási prototípusok gyors előállítása
Megjegyzések
A felbontás a minta bonyolultságától és a lézeres írási beállításoktól függ
A kész fotomaszk gyártási átfutása különbözik a maszktervezési átfutástól
A szolgáltatás nem tartalmazza a fájlok javítását vagy tervezési módosítását
Description
Creating a photomask with a laser pattern generator is a high-precision patterning service where the desired mask pattern is exposed onto a glass substrate coated with chrome using a laser. The resolution of the process depends on the capabilities of the equipment and the chosen patterning parameters.
The service is suitable for the production of high-precision photomasks required for microfluidics, photonics, MEMS/NEMS, and other micro-manufacturing steps.
What does the service include?
Printing of the submitted GDSII/DXF/OASIS file onto the photomask
Laser pattern generator exposure at the specified resolution
Preparation of single-layer or multi-layer masks (in separate writings)
If required: placement of alignment marks, reference points, calibration patterns
Output: 5” × 5” size photomask
Related service
Photomask design (CER-2)
Detailed design, layout creation, and DRC are available as a separate service:
See: Photomask design / Fotomaszk tervezés (link in the knowledge base).
Slice size / Mask size
5” × 5” photomask
Typical application areas
Microfluidic master molds
Photolithographic steps in chip manufacturing
Waveguides, gratings, optical structures
MEMS/NEMS samples
Patterning of sensor electrodes
Rapid prototyping for research
Notes
The resolution depends on the complexity of the pattern and the laser writing settings
The manufacturing lead time for the finished photomask differs from the mask design lead time
The service does not include file corrections or design modifications