[CER-6] Kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) / Chemical vapor deposition (CVD)
Konzorciumi Partner / Consortium Partner | [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet |
|---|---|
Szolgáltatás kategóriája / Service category | |
Rövid leírás / Short description | A vékony rétegek kémiai gőzfázisú üledékképzése (anyag- és technológiafüggő) Chemical Vapour Deposition of thin layers (material and technology dependent) |
Várható szállítási idő / Typical lead time | Változó, megrendeléskor számoljuk / Variable, calculated on ordering |
Irányár / Approx. cost | €72-345 szeletenként / per wafer |
Kép / Image | 
|
Leírás
A Kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) szolgáltatás keretében a HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézete vékony rétegek kontrollált leválasztását biztosít gázfázisú kémiai reakciók alkalmazásával. A technológia lehetővé teszi homogén, jól reprodukálható bevonatok kialakítását különböző hordozófelületeken.
A szolgáltatás során a gáz halmazállapotú prekurzorok a reaktorban kémiai reakcióba lépnek, majd szilárd réteg formájában kiválnak a szubsztrát felületén. A leválasztott réteg vastagsága, összetétele és tulajdonságai a folyamatparaméterekkel pontosan szabályozhatók.
A CVD technológia alapvető fontosságú mikro- és nanoelektronikai eszközök, MEMS struktúrák, szenzorok és bevonatrendszerek gyártásában, ahol a rétegminőség és a felületi fedés kritikus követelmény.
Description
Within the framework of the Chemical Vapor Deposition (CVD) service, the Institute of Technical Physics and Materials Science at the HUN-REN Energy Science Research Center ensures the controlled deposition of thin films using gas-phase chemical reactions. The technology enables the formation of homogeneous, well-reproducible coatings on various substrate surfaces.
During the service, gaseous precursors chemically react in the reactor and then precipitate as a solid layer on the substrate surface. The thickness, composition, and properties of the deposited layer can be precisely controlled by the process parameters.
The CVD technology is fundamentally important in the manufacturing of micro- and nanoelectronic devices, MEMS structures, sensors, and coating systems where layer quality and surface coverage are critical requirements.