[CER-4] Fotolitográfiai lépés / Photolithography step

Konzorciumi Partner / Consortium Partner	[CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet
Szolgáltatás kategóriája / Service category	Áttekintés: Mikromegmunkálási és litográfiai szolgáltatások / Overview: Microfabrication and lithography services
Rövid leírás / Short description	Fotomaszk létrehozás lézerminta-generátorral (felbontástól függően). Kapcsolódó szolgáltatás: [CER-2] Fotomaszk tervezés / Photomask design Szeletméret: 5” x 5” Single photolithography step with positive resist Wafer size: 4”
Várható szállítási idő / Typical lead time	Változó, megrendeléskor számoljuk / Variable, calculated on ordering
Irányár / Approx. cost	€66 szeletenként / per wafer
Kép / Image

Leírás

A [CER-4] Fotolitográfiai lépés / Photolithography step szolgáltatás keretében a [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet lézerminta-generátoron alapuló fotómaszk-gyártást biztosít mikro- és nanofabrikációs alkalmazásokhoz. A szolgáltatás során a korábban elkészített layout (pl. CER-2 Fotómaszk tervezés) közvetlenül kerül átvitelre a fotómaszk hordozóra.

A szolgáltatás tipikusan kutatás-fejlesztési és prototípus alkalmazásokhoz ajánlott, ahol gyors és rugalmas maszk-előállítás szükséges kis darabszámban. A felbontás a választott technológiától és reziszttől függ.

A tevékenység magában foglalja: digitális maszkfájlok (pl. GDSII) feldolgozását, lézermintázást fotóérzékeny rétegen, a fotómaszk előhívását és ellenőrzését, egyszeri fotolitográfiai lépés végrehajtását pozitív rezisztben.

Description

Within the [CER-4] Fotolitográfiai lépés / Photolithography step service, photomask manufacturing based on the [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet laser pattern generator is provided for micro- and nanofabrication applications. During the service, the previously prepared layout (e.g., CER-2 Photomask design) is directly transferred onto the photomask substrate.

The service is typically recommended for research and development and prototype applications where fast and flexible mask production is needed in small quantities. The resolution depends on the chosen technology and resist.

The activity includes: processing digital mask files (e.g., GDSII), laser patterning on a photo-sensitive layer, development and inspection of the photomask, execution of a single photolithography step in positive resist.