[CER-19] Röntgen fotoelektron spektroszkópia (XPS) / X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
Konzorciumi Partner / Consortium Partner | [CER] HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet |
|---|---|
Szolgáltatás kategóriája / Service category | |
Rövid leírás / Short description | Felületérzékeny kémiai összetétel- és kötésállapot-analízis röntgenspektroszkópiával. Surface-sensitive chemical composition and bonding state analysis by X-ray spectroscopy. |
Várható szállítási idő / Typical lead time | Változó, megrendeléskor számoljuk / Variable, calculated on ordering |
Irányár / Approx. cost | €308 óránként / per hour |
Kép / Image |
Leírás
Az XPS szolgáltatás keretében a HUN-REN Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézete röntgen fotoelektron spektroszkópián alapuló felületanalitikai vizsgálatot biztosít. A módszer alkalmas az anyagok felületi kémiai összetételének, elemi koncentrációinak és kötésállapotainak meghatározására néhány nanométeres mélységtartományban. A vizsgálat során röntgensugárzás hatására kilépő fotoelektronok energiájának mérésével nyerhető információ a felület kémiai szerkezetéről. Az XPS különösen hasznos oxidrétegek, vékonyrétegek, bevonatok és felületkezelések jellemzésére. A szolgáltatás támogatja a felületi szennyeződések azonosítását és a technológiai folyamatok validálását. Tipikus alkalmazási területei a mikroelektronika, anyagtudomány és felületkémia.
Description
Within the XPS service, the HUN-REN Energy Science Research Centre's Institute of Technical Physics and Materials Science provides surface analytical examination based on X-ray photoelectron spectroscopy. This method is suitable for determining the surface chemical composition, elemental concentrations, and bonding states of materials within a depth range of a few nanometers. The information about the chemical structure of the surface is obtained by measuring the energy of photoelectrons emitted under X-ray irradiation during the examination. XPS is particularly useful for characterizing oxide layers, thin films, coatings, and surface treatments. The service supports the identification of surface contaminants and the validation of technological processes. Typical application areas include microelectronics, materials science, and surface chemistry.